橢圓偏光儀-alpha 2.0-橢偏儀-光阻厚度/非破壞性薄膜厚度量測-J.A.Woollam

橢偏儀-alpha 2.0 非破壞性薄膜/光阻厚度量測儀 特點

• 非破壞性、非接觸性：光學式量測，無須接觸與破壞樣品。
• 高度精確性與重複性：因其並非量測光之實際強度，而是量測光之強度比例，橢圓偏振較不受光源之不穩定性或是大氣環境吸收光之影響。
• 可測得極薄的膜厚：測量的Δ參數具有高度的靈敏度，所以可測得超薄的膜厚(<10nm)，可用於光阻厚度量測、氧化物量測。
• 簡便：先進的分析軟件配合按鈕式操作便可輕鬆完成測試
• 優異：相比其他技術，先進的光譜橢偏儀為您提供更可靠的薄膜厚度及折射率數據
• 靈活：可測量各種材料：電介質、半導體、有機物、光阻厚度、氧化物...
• 超值：合理價格的價格擁有出色的光譜橢偏技術
• 快速：數秒鐘內完成數百個數據點的測試—結果立等可取

橢偏儀-alpha 2.0非破壞性薄膜/光阻厚度量測儀 應用

• VCSEL量測
• 氮/氧化物薄膜量測
• ITO量測
• OLED有機材料薄膜量測

橢圓偏光儀Alpha 2.0 非破壞性薄膜/光阻厚度量測