Skylark Lasers產品技術與特點

• 整合式單片技術 (Integrated Monolithic Technology)：這項專有技術在小巧的尺寸下產生最高的輸出功率，結合了固態雷射卓越的光學特性與雷射二極體的微型尺寸和高效率操作。
• 專有的 NX 光機平台 (Proprietary NX Opto-mechanical Platform)：此平台能夠製造出堅固、超穩定、可重複的雷射，涵蓋廣泛的波長範圍。
• 卓越的光學性能：
o 超穩定 (Ultra-stable)：雷射波長穩定性在 8 小時內可達 < 200 fm。
o 超窄線寬 (Ultra-narrow linewidth)：線寬 < 200 kHz，或 < 1 MHz，特定型號如 Skylark 780 NX 和 785 NX 的線寬可達 ≤ 0.3 MHz，而 320 NX 和 349 NX 可達 ≤ 0.5 MHz。窄線寬有助於提高解析度。
o 低噪音 (Low noise)：具有低 ASE 噪音，例如 780 NX 型號的 ASE 噪音 < – 80 dB。側帶衰減 > 70 dB有助於減少背景噪音並提高信噪比。
o 高光譜純度 (High spectral purity)。
o 啟動重複性：絕對波長規格的啟動重複性 < 3 GHz。
o 波長漂移：在 24 小時內波長漂移 < 20 MHz。
o 強度漂移：在 15°C 溫度變化範圍內強度漂移 < 2 %。
• 高功率與緊湊尺寸：雷射體積小於 1 公升，卻能提供高輸出功率，例如 Skylark NX 系列在緊湊的尺寸下提供高輸出功率。部分型號如 320 NX 可達 200 mW，349 NX、780 NX 和 785 NX 可達 400 mW。
• 低功耗和簡化熱管理：這些特性使得雷射在極小的尺寸下也能提供更高的輸出功率可擴展性。
• 特定波長覆蓋：現有解決方案涵蓋用於銣基應用 (rubidium-based applications) 的 780.24 nm 和用於鍶基應用 (strontium-based applications) 的 689 nm、698.4 nm 和 813.42 nm。

Skylark Lasers應用領域

• 量子技術發展 (Quantum Technology Development)：
o 量子感測 (Quantum Sensing)：提供用於量子感測、計量學及其他技術的超窄線寬雷射，波長與原子躍遷精確對應。
o 量子計算 (Quantum Computing)。
o 量子導航 (Quantum Navigation)。
o 量子通訊 (Quantum Communications)。
o 用於操縱量子位元以及原子和離子量子態的雷射系統。
• 檢測 (Inspection)：
o 提供高功率紫外線光，實現均勻、高解析度、低噪音的成像。
o 寬能隙半導體 (Wide band gap semiconductors) 檢測。
o 晶圓檢測 (Wafer inspection)。
o 光致發光 (Photoluminescence, PL)。
o 流式細胞術 (Flow cytometry)。
• 分析 (Analytics)：
o 超穩定輸出和超窄線寬實現精確的資料收集和測量。
o 拉曼光譜 (Raman spectroscopy)。
o 全像術 (Holography)：單頻雷射可以產生高解析度的全像圖像，更長的相干長度允許全像設置的更多靈活性和複雜性。
• 製造 (Manufacturing)：
o 高功率、單頻 DPSS 雷射具有卓越的光譜純度，提供精確性和一致性，實現大面積的詳細圖案化而不會影響品質。
o 雷射干涉光刻 (Laser interference lithography, LIL)。
o 光柵母模製造 (Optical grating mastering)。