In Situ光譜橢偏儀應用於量測原子層沉積

橢偏儀特別適合於測定非常薄膜的厚度，因為它測量從表面反射的光的偏振變化，包括由薄膜引起的相位移。這種相位信息對非常薄的膜（即厚度小於10nm）非常敏感。因此，SE非常適合於ALD，因為ALD通常用於沉積超薄膜。這種敏感性在反射或透射強度基礎測量中是無法獲得的。in-situ SE SE在ALD中的另一個優勢是現代SE系統的測量時間（數據獲取速率）與ALD過程的沉積速率之間的出色匹配。在幾分之一秒內可以收集到包含數千個波長的完整SE光譜，這能夠洞察ALD過程表面的化學變化。這些in-situ SE的優點同樣適用於大多數其他薄膜沉積方法。本文涵蓋了in-situ SE用於ALD的各個方面。首先，我們提供了ALD的簡史和概述。然後，我們討論了SE儀器在ALD腔室中的整合。最後，我們概述了in-situ SE數據分析，包括對基板、氧化物和金屬薄膜建模概念的簡要討論。