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LEP500-電漿蝕刻深度監控設備
    發布時間: 2022-07-22 14:42    
Intellemetrics
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LEP500-電漿蝕刻深度監控設備-Intellemetrics

Intellemetrics LEP500電漿蝕刻深度監控設備，能完美整合在任何電漿蝕刻系統中，透過670nm, 980m或1550nm的光源，在量測光源穿透、反射樣品過程之n、k值變化並與內建數據庫做對比，來得知晶圓蝕刻後的厚度、寬度…..等等物理資訊。
檢測示意圖解說量測過程：

Intellemetrics-LEP500-Presentation-Feb-2021
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