Anti reflective Coatings – AR鍍膜∣ 精密光學應用

Andover Corporation的紅外線抗反射（AR）塗層(Anti reflective Coatings)是一種先進的非放射性介電多層結構，專為紅外線應用而設計。利用精密薄膜技術，這些塗層能將鍺（Germanium）及其他基材表面的反射率從36%大幅降低至每面低於1%。我們的塗層由精確設計的交替層組成，這些層結構能產生反射光的破壞性干涉和透射光的建設性干涉，從而在指定波長範圍內優化系統性能。
紅外光Anti-Reflective (AR) 鍍膜特點

大幅減少表面反射：紅外線抗反射鍍膜能將表面的反射率從每個表面36%顯著降低至不足1%。這不僅減少了光線損失，也消除了反射本身，在某些應用中這是主要優點。
增強系統效率：透過減少光線的損失，這些鍍膜能提高系統的整體效率，並優化指定波長範圍內的系統性能。
改善成像系統對比度：在複雜的光學系統（如望遠鏡和顯微鏡）中，減少反射有助於消除雜散光，進而改善影像的對比度。這在行星天文學等領域尤其重要。
採用堅硬耐用的材料：這些鍍膜由堅硬、耐用的非放射性介電多層結構構成，能夠承受高品質光學元件相關的清潔和處理。它們也提供寬廣的操作溫度範圍和卓越的環境穩定性。
符合軍事規格：Andover Corporation的鍍膜符合MIL-C-48497軍事規格。
實現寬廣的頻率性能：雖然鍍膜性能會隨波長和入射角變化，但通常可以在相對寬廣的頻率範圍內實現良好的性能，可選擇用於紅外線、可見光或紫外線波段。

紅外光Anti-Reflective (AR) 鍍膜應用
紅外線抗反射鍍膜在多種光學系統中都有廣泛應用，主要目的是提升系統性能和效率。

熱像儀系統 (Thermal Imaging Systems)
武器系統 (Weapons Systems)
探測器視窗 (Detector Windows)
杜瓦瓶視窗 (Dewar Windows)
軍事光學 (Military Optics)
太空應用 (Space Applications)
研究儀器 (Research Instruments)
高功率雷射系統 (High-Power Laser Systems)
光譜設備 (Spectroscopy Equipment)

紅外光Anti-Reflective (AR) 鍍膜主要參數

Thickness: 1.0 ± 0.2mm
Diameter Tolerance: +0/-0.2mm
Minimum Clear Aperture: 90% of outside dimension
Substrate Material: Germanium (other options available)
Flatness: 2 waves at 632.8nm
Parallelism: <5 arc minutes
Surface Quality: 80/50 per MIL-C-48497A
Coating Quality: 80/50 per MIL-C-48497A
Environmental Testing:
24-hour humidity per MIL-C-48497A
Moderate Abrasion per MIL-C-48497A
Adhesion per MIL-C-48497A
Operating Temperature: -196°C to +200°C
Standard Sizes: 25mm and 50mm diameter
Mounting: Unmounted (custom mounting available)

紅外光Anti-Reflective (AR) 鍍膜系列

PART NO.	DESCRIPTION
GEBBAR-2-14-25	GE BroadBand A/R
GEBBAR-2-14-50	GE BroadBand A/R
GEBBAR-3-5-25	GE BroadBand A/R
GEBBAR-3-5-50	GE BroadBand A/R
SIBBAR-3-5-25	SI BroadBand A/R
SIBBAR-3-5-50	SI BroadBand A/R
GEBBAR-8-12-25	GE BroadBand A/R
GEBBAR-8-12-50	GE BroadBand A/R
GEBBAR-8-14-25	GE BroadBand A/R
GEBBAR-8-14-50	GE BroadBand A/R