無光罩直寫曝光機TTT-UV-Litho ACA ∣ Tuo Tuo

• 極致微米解析度：最小關鍵線寬（CD）可達 1 μm，支援最高 256 階灰階曝光（Grayscale Lithography），輕鬆實現 3D 微結構與微流體元件製作。
• 大面積基板相容：支援最大至 150 mm × 150 mm（6 吋） 曝光範圍，相容矽晶圓、石英、玻璃等多元基板材質。
• 電動物鏡切換：具備高精度與高速模式自由切換，兼顧亞微米解析度與大面積高效率曝光需求。
• 直覺化所見即所得：搭載專用圖形預覽軟體，搭配綠光定位指引與抗 UV/防光阻曝光安全防護外罩，操作簡易安全。

無光罩直寫曝光機TTT-UV-Litho ACA 特點

• 曝光波長：385nm 或 405nm
• 曝光精度：5X物鏡 8µm(確保值)；20X物鏡 2µm(確保值)；50X物鏡 1µm(確保值)
• 曝光速度：3 mm2/min@1 μm, 20 mm2/min@2 μm
• 精準對位：有
• 對位對準精度：400nm
• 曝光均勻性：畫幅內優於85%
• 支持樣品尺寸：150mm×150mm(最大)
• 位移台類型：回饋線性平台(無回程差)
• 軟體：基於LabView的全自動軟體
• 設備尺寸：76 cm (L) × 65 cm (W) × 67 cm (H) (本體)
• 設備重量：153 kg(本體)
• 設備外殼：UV防護外殼