無光罩直寫曝光機TTT-UV-Litho S ∣ Tuo Tuo

無光罩直寫曝光機TTT-UV-Litho S 特點

• 突破性關鍵尺寸（CD）表現採用：375 nm / 385 nm / 405 nm 固態 UV LED 光源，最小線寬解析度可達 500 nm（0.5 μm），完美勝任次微米級精密圖形曝光。
• 4,096 階連續灰階曝光（Grayscale Exposure）：支援最高4,096階灰階調變曝光，可單道工序精準加工傾斜面、微透鏡陣列（MLA）及具備深度變化的 3D 微立體結構。
• 大面積行程與多元基板相容性：曝光平台行程最大達 300 mm × 300 mm（相容12吋晶圓），支援矽晶圓（Si）、石英玻璃及銅箔基板等各類基材。
• 電動物鏡快速切換：整合多倍率電動物鏡切換架構，使用者可在「高精度微區解析」與「大面積高速掃描」模式間自由調配，兼顧加工效率與極致精度。
• 直覺化所見即所得（WYSIWYG）與安全防護：搭載即時圖形對位預覽系統與綠光輔助定位功能，機體內建防紫外與濾光保護外罩，保護光阻不易意外曝光，確保操作安全與重複性。