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RC2 Small Spot 微光斑光譜型橢偏儀
    發布時間: 2026-10-14 15:39    
J.A.Woollam
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微光斑光譜型橢偏儀 RC2® Small Spot｜薄膜量測

RC2® Small Spot 系列光譜橢偏儀旨在滿足微區特徵與圖案化薄膜量測的嚴苛需求。先進的雙旋轉補償器光學設計、微聚焦光斑與極速數據擷取，結合在一個強大且高精度的微區橢偏儀工具中。RC2® 橢偏儀提供卓越的量測靈敏度與準確性。
J.A. Woollam 專利的 D-RCE（Dual Rotating Compensator Ellipsometer）技術採用消色差延遲片設計，結合高感度 CCD 同步光譜探測，可在幾分之一秒內收集涵蓋深紫外至近紅外線的完整光譜。搭配 25 µm × 60 µm 超微光斑與數位 CCD 影像定位系統，RC2® Small Spot 專為微結構、Pattern 區域與微米級樣品設計，能彻底消除傳統橢偏儀的相位盲區，並精準表徵複雜各向異性材料與薄膜特性。此外，系統具備自動樣品高度對齊與高度擴充性，支援選配自動化樣品平台進行精密 Mapping 掃描。
微光斑光譜型橢偏儀 RC2® Small Spot 特點
  • 先進的雙補償器技術：專利 D-RCE 架構消色差設計，全偏振態量測無角度死角，獲得極高的準確性與重複性
  • 極致微區量測：25 µm × 60 µm 微聚焦光斑，搭配整合式 CCD 影像，精準鎖定微米級結構
  • 快速光譜探測：CCD 探測器全波長同步量測，最快量測僅需 0.3 秒（典型值 1–5 秒）
  • 寬光譜範圍：涵蓋 193 nm 至 1000 nm 深紫外到近紅外光譜，約 800 個波長點一次擷取
  • 穩定與自動化對焦：固定 65° 入射角與水平樣品台結構，具備自動樣品高度對準（Auto Sample Height Alignment）
  • 頂級分析軟體：標配 5 套 CompleteEASE® 光學分析軟體，提供強大的薄膜厚度與光學常數擬合能力
  • 靈活擴充：整合工業級機架式工作站，可選配自動化樣品移動平台進行高密度表面圖譜分析
微光斑光譜型橢偏儀 RC2® Small Spot 應用
  • 半導體 Patterned Wafer 微區膜厚量測
  • 微機電系統（MEMS）元件薄膜分析
  • Micro LED / OLED 陣列與圖案化結構量測
  • 微光學元件（Micro-optics）與光波導薄膜表徵
  • 介電層與金屬微結構光學常數（n, k）分析
  • 光阻微圖案厚度與線寬結構評估
光斑光譜型橢偏儀 RC2® Small Spot
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