微區磁光克爾及磁圓二色測試系統-MAMOS系列

磁光克爾測量技術主要透過探測光和磁性樣品相互作用後反射光的偏振態變化來研究材料的磁性，在超快磁光儲存領域有重要應用，磁光克爾測量技術是一種無接觸光學測量技術，在單原子層微小樣品測量方面獨具優勢，實現PPMS和SQUID無法完成的測量。微區磁光克爾系統是基於磁光克爾效應的非接觸、非破壞可直接觀測磁性材料和裝置中的磁化狀態的光學顯微成像設備，用於清晰直觀了解樣品內的磁化狀態空間分佈和時間演化，
微區磁光克爾及磁圓二色測試系統，可依使用者需求提供客製化解決方案，產品範圍涵蓋微區磁光克爾系統及磁圓二色測試系統，並可依使用者需求升級拓展拉曼，螢光，螢光壽命及二次諧波（可選配電控偏振）等模組，可用於檢測樣品表面磁性及磁疇結構，適用於磁性材料、二維鐵磁性材料和自旋電子裝置等應用領域。
非接觸，非破壞
波長，偏振態，角度分辨
微區測量
磁疇成像
微區磁光克爾及磁圓二色測試系統主要參數

模組	參數
主體架構	主體尺寸：長× 寬× 高，約600 mm × 600 mm × 550 mm; 高承重三維電控底座：步進馬達位移行程：行程：XYZ 12012040 mm；XY最小步進距離： 0.04 um， Z軸最小步進距離：~0.01 um；最大負載：＞ 10 Kg；鋁合金整體架構；光路整體移動：1. 光路移出以更換樣品；2. 大範圍尋找待測區域。靠近磁鐵部分採用無磁性設計；
顯微成像模組	尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm；可見光相機：20M pixels，15fps@5K ，50fps@1.8K， Sony 1 吋CMOS; 物鏡：適配磁體，無磁性反射式物鏡或非球面透鏡；照明光源：科勒照明， LED面光源，亮度連續可調；成像模組可電控完全移出光路，且不影響樣品面光斑位置。
MOKE&RMCD模組	外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm；包含所需的外部設備：鎖相放大器；低雜訊前放大探頭；光彈調製器；斬波器；克爾角解析度： ~0.5 mdeg (~ 8.7mrad)；一次掃場同時獲得RMCD和MOKE資料；電控切換成像與測試；電控功率； Mapping功能，配合步進掃描台，或低溫設備內建壓電台。
Raman532&PL&SHG模組	外殼尺寸：長 × 寬 × 高，約 550 mm × 550 mm × 145 mm；拉曼最低波數：＜ 80 cm-1；空間解析度：300 nm （532 nm雷射）；電控偏振掃描：起偏&&檢偏，角度解析度0.0144 deg；電控功率調整； Mapping功能，配合步進掃描台，或低溫設備內建壓電台。
532nm窄線寬雷射 MSL-U-532	中心波長：532nm+/-0.1 輸出功率：100mw 功率穩定性：2%（4 小時 RMS） M2：＜1.2 線寬：＜0.00001nm 光斑模式：TEM00 雜訊：＜0.5%
軟體	MOKE，RMCD，Raman，PL 掃描成像；偏振掃描；支援文字程式碼輸入，以實現自動化測試流程；