產品中心
準分子雷射鏡片-ARF(193nm)
    發布時間: 2020-09-02 11:43    
CVI
CVI

準分子雷射鏡片-ARF:Excimer Laser Mirrors, 193nm-CVI

用於193 nm的45°AOI的高功率紫外線準分子雷射鏡(Excimer Laser Mirrors)。這些高質量的ArF準分子雷射鏡片可提供高反射率，高表面精度和質量以及高激光損傷閾值。塗層材料包含用於193 nm反射鏡的氟化Thor。可根據要求提供訂製。
ARF準分子雷射鏡片 主要參數
  • 基材：標準級康寧7980 1-D（熔融石英）
  • 直徑公差： + 0 / -0.25mm
  • 厚度公差： ±0.25mm
  • 楔形： ≤5弧分
  • Chamfer:Ø ≤ 50.8mm: 0.35mm leg width at 45° nominal
    Ø > 50.8mm: 0.85mm leg width at 45° nominal
  • S1表面圖：< λ/10 p-v at 633nm before coating;after coating on select substrates
  • S1表面質量：每MIL-PRF 13830b（100W時）10-5刮痕
  • S2表面質量：Commercial polish
  • 通光孔徑： ≥中心直徑的85％
  • 附著力和耐久性：符合MIL-C-48497a
  • 入射角：僅45°
  • 反射率（在193nm下）：在45°下R≥96.0％，UNP
  • 反射率（在248nm下）：在45°下R> 99.0％，UNP
  • 損壞閾值：1 J/cm², 20ns pulse at 193nm
    3 J/cm², 8ns pulse at 248nm
先鋒科技
youtube
FB
Line
服務熱線：886-2-2655-2200  業務咨詢：151 / 維修校正：185
產品
文章
搜索
名稱描述內容

【關鍵字搜索】​​：

請於欄位下方先點選"內容"

當前位置：