SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler
發布時間: 2022-12-08 10:23
Ophir
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler ∣ Ophir
SP504S光束分析儀(光斑分析儀) Beam Profiler可以精確地捕獲並分析340nm到1100nm的波長。在32.5mm畫幅下能形成最大有效面積,具有寬動態範圍和無與倫比的信噪比,是進行超大光束輪廓分析的理想選擇。
.23mm x 23mm成像儀格式
.最高解析度
.CMOS,全局快門
.真正44.6dB動態分辨率
.5120 x 5120像素分辨率,含4.5µm像素間距
.包括BeamGage專業軟體
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler 特點
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符合ISO標準
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採用獲得專利技術的UltraCal演算法,最高精度的測量儀
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採用“自動設置”和“自動曝光”功能進行快速設置和精度優化
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler 測量參數
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光斑形狀/尺寸大小
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二維/三維空間強度分佈
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直徑D4α(D4αM長軸/D4αm短軸)
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質心位置(X,Y座標)
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長寬比
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峰值位置
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發散角量測
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler 主要參數
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Wavelengths:340-1100nm
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Beam Sizes:45μm – 23mm
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Interface:GigE
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Sensor Type:CMOS
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Compatible Light Sources:CW, Pulsed
需要Win10(64 Bit或更高版本)
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler