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SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler
    發布時間: 2022-12-08 10:23    
Ophir
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SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler ∣ Ophir

SP504S光束分析儀(光斑分析儀) Beam Profiler可以精確地捕獲並分析340nm到1100nm的波長。在32.5mm畫幅下能形成最大有效面積，具有寬動態範圍和無與倫比的信噪比，是進行超大光束輪廓分析的理想選擇。
．23mm x 23mm成像儀格式
．最高解析度
．CMOS，全局快門
．真正44.6dB動態分辨率
．5120 x 5120像素分辨率，含4.5µm像素間距
．包括BeamGage專業軟體
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler 特點
  • 符合ISO標準
  • 採用獲得專利技術的UltraCal演算法，最高精度的測量儀
  • 採用“自動設置”和“自動曝光”功能進行快速設置和精度優化
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler 測量參數
  • 光斑形狀/尺寸大小
  • 二維/三維空間強度分佈
  • 直徑D4α(D4αM長軸/D4αm短軸)
  • 質心位置(X,Y座標)
  • 長寬比
  • 峰值位置
  • 發散角量測
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler 主要參數
  • Wavelengths：340-1100nm
  • Beam Sizes：45μm – 23mm
  • Interface：GigE
  • Sensor Type：CMOS
  • Compatible Light Sources：CW, Pulsed
需要Win10(64 Bit或更高版本)
SP504S光束分析儀(光斑分析)Beam Profiler
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