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氫倍半矽氧烷光阻劑
    發布時間: 2023-02-14 12:22    
AQMaterials
AQM開發了一種合成電子級半矽氧烷基樹脂(silsesquioxane-based, comprised of silicon and oxygen core, H-SiOx)簡單及方便的方法，Hydrogen Silsesquioxane Resist這類樹脂適合用於光刻製程中的光阻劑，尤其對於EUV與Ebeam光源有非常好的表現。我們的H-SiOx樹脂適合做成常見有機溶劑的均勻混和液(例如：甲苯和甲基異丁基酮) ，應用於薄膜製程上。根據薄膜厚度，可以實現半間距小於 10 nm 的密集圖案。我們的高品管製程，可以保障光阻的長時間壽命與耐久性。
客製化能力包含：特殊光阻劑配方、顯影劑或修改具有不同末端官能團的倍半矽氧烷以加入受控摻雜。
氫倍半矽氧烷光阻劑
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