半導體光學關鍵尺寸量測OCD (Optical Critical Dimension)

傅立葉散射儀（Scatterometer）-大範圍奈米結構非接觸型量測解決方案ー半導體光學關鍵尺寸量測OCD (Optical Critical Dimension)/：高速掃描與非接觸式的量測技術，是近代對於特定奈米結構量測的主要需求，相較於SEM(破片量測)與AFM(探針掃描量測)都非真正的非接觸量測，Tera Nova的傅立葉掃描顯微鏡可以解決這樣的需求，提供了單奈米級的量測準確度，適合應用在光學與電子產業的結構量測需求上。
量測技術上，主要透過準直光束有效的入射到結構表面產生散射狀況，擷取散射角度不同的繞射光，可以計算出真實結構的立體樣貌，主力為量測光柵或透鏡陣列等等的穿透型元件表面結構，也是能夠有效取代白光干涉儀的光學度量新技術。
半導體光學關鍵尺寸量測OCD (Optical Critical Dimension) 主要參數

Z軸量測精度	<2nm
橫向結構解析度	50um
完整掃描時間(各點)	15-30秒
掃描結構角度範圍	-40 ~ +40度
外觀尺寸(長X寬X高)	1.8mX0.9mX0.5m
最小夾持的晶圓厚度	300um
可夾持的最大晶圓尺寸	12"晶圓(300mm)
可量測的基板	透明與不透明基板
晶圓入料	手動或自動可選