產品中心
MLI-200/500/1000準分子雷射
    發布時間: 2023-09-04 16:48    
MLase AG
MLase AG

MLI-200/500/1000準分子雷射/excimer lasers

MLase的現代集成型MLI準分子雷射器/excimer lasers是波長為193nm或248nm的紫外線光源,具有高脈衝能量高達16毫焦,脈衝重複頻率高達1000赫茲。是市場上使用壽命最長、可靠性最高的獨立裝置,運營成本最低。均勻的鋼輪廓和能量穩定性使它們非常適合苛刻的應用。我們的LC準分子雷射系統還具有主動水冷卻(使用生活用水或外部換熱器;無純淨水),以穩定連續執行。
MLI系列準分子雷射/excimer lasers 型號
MLI-200 / MLI-500 / MLI-1000 準分子雷射
MLI-500LC / 1000LC 準分子雷射(帶水冷系統)

MLI系列準分子雷射/excimer laser特點

.剛性設計
.預先電離產生脈衝
.固態電路
.能量監控
.集成型準分子雷射器,單相
.高可靠性
.均勻的光束輪廓
.立即可用,無需老化
.全金屬密封管
.延長數十億次脈衝的使用壽命
.能量穩定
.易於操作、易於整合

MLI-200/500/1000準分子雷射系列規格

Parameter ArF ArF ArF KrF KrF KrF
Wavelength (nm) 193 193 193 248 248 248
Pulse repetition frequency (Hz) 200 500 1000 200 500 1000
Stabilised pulse energy (mJ) 6 6 6 10 10 10
Stabilised average power (W) 1,2 3,0 6,0 2,0 5,0 10
Pulse stability (standard deviation %) 2 2 2 2 2 2
Beam width (FWHM, VxHmm) 6×3 6×3 6×3 6×3 6×3 6×3
Beam divergence (FWHM, VxHmm) 2×1 2×1 2×1 2×1 2×1 2×1
Pulse length 5-10 5-10 5-10 5-15 5-15 5-15

MLI-500 / 1000 excimer lasers LC準分子雷射系列規格

Parameter ArF ArF ArF KrF
Wavelength (nm) 193 193 248 248
Pulse repetition frequency (Hz) 500 1000 500 1000
Stabilised pulse energy (mJ) 6 6 10 10
Stabilised average power (W) 3,0 6,0 5,0 10
Pulse stability (standard deviation %) 2 2 2 2
Beam width (FWHM, VxHmm) 6×3 6×3 6×3 6×3
Beam divergence (FWHM, VxHmm) 2×1 2×1 2×1 2×1
Pulse length 5-10 5-10 5-15 5-15
MLI-200 / 500 / 1000 excimer lasers
MLI-500 / 1000 excimer lasers LC
服務熱線:886-2-2655-2200  業務咨詢:151 / 維修校正:185
名稱描述內容

【關鍵字搜索

請於欄位下方先點選"內容"

當前位置: