雷射共軛焦濾光片 ∣ Chroma

雷射共軛焦濾光片-標準雷射掃描共軛焦應用

典型的雷射掃描裝置需要濾光能力極好的光學濾光片，並且額外考慮到輪式或分光設計中的發射濾光片(Emission filter)。如果共焦系統只有一個偵測器（通常是 PMT）和/或使用濾光輪進行順序成像，則用於每條雷射線的發射濾光片必須僅純淨的過濾出該雷射線。然而，如果共焦具有多個 PMT，並具有多個發射濾光片，則每個發射濾光片必須阻擋所有正在使用的雷射線。這些多 PMT 系統也能使用發射分光二向色鏡來整理導引光線。這些二向色鏡不需要滿足主鏡這樣苛刻的規格，但在某些應用中可能需要透過防反射塗層來達到影像品質。
如上所述，一些較新的雷射掃描單元使用的主二向色鏡不是 45 度 AOI，而是 10-15 度 AOI，而發射分光二向色鏡通常為 45 度 AOI。

雷射共軛焦濾光片-多孔成像共軛焦應用

目前商用的尼普科夫盤(Nipkow Disk)共焦鏡可以有兩個完全不同的光束路徑。一種使用反射雷射的初階((First order))二向色鏡，因此與「標準」共焦配置非常相似。另一種類型使用初階(First order)二向色鏡，將雷射/激發光傳輸到樣品，然後反射發射光。
光線照射到偵測器（通常是 CCD 攝影機）。由於多種原因，這種透射二向色設計要困難得多。具有非常窄的頻寬（對於多雷射器配置中的每個雷射）和寬的反射帶的二向色鏡的設計和製造有些困難。這種設計也意味著更多的雷射最終將被反射到偵測器（也以不同的角度），從而更加強調每個發射器的阻擋能力。並且，由於此透射鏡位於該示波器的焦點路徑中，因此基底的厚度受到限制，這使得波前畸變控制變得複雜。因此具有優秀光篩選能力與薄型化設計的Chroma濾光片就可以符合這樣的應用，如圖。