奈米結構解決方案-NanoStructure Solutions™

MOXTEK與客戶合作設計、驗證和創建大量製造的奈米結構解決方案。提供快速設計迭代和奈米壓印光刻 (NIL) 優化的選項。Moxtek使用統計製程控制(SPC)來監控列印後關鍵尺寸(CD)的可重複性。
Moxtek在我們的定期Design Master Shuttle上提供原型製作樣本。此NIL Design Master Shuttle包含用於多個(不同)設計結構的空間，可讓工程師在單一太空梭迭代上測試多個設計，從而減少開發時間/成本。我們可以將您獨特的設計添加到我們的下一個 Design Master Shuttle上，用於製作您最新的鏡頭或奈米結構光學元件的原型。這些設計每年我們都要處理許多次。
Moxtek 生產奈米結構光學元件已有20 多年的歷史。我們在Ø200mm 晶圓上提供奈米結構元件的大批量晶圓複製。我們的多功能能力用於製造功能性超表面，包括：超透鏡(Metalenses)、超光學元件 (MOE)、衍射光學元件 (DOE)、圖案化奈米結構、波導、光子晶體和生物感測器陣列。這些裝置用於各種應用的成像、照明和顯示系統，包括：汽車、醫療/牙科成像、相機系統等。
生產能力：
．高生產量能
．有很多Prototyping可選擇
．奈米壓印NanoImprint Lithography (NIL)
．母模設計與調整能力Design Master Shuttle
．母模(Master)與翻印膜(Stamp)生產能力
．薄膜擴散生產工藝(PECVD, Sputter, ALD)
．蝕刻工藝(metals, oxides low to high refractive index)
．AFM與SEM品管能力
．光學量測系統品管能力
選配重點
．最小線寬CD: 50nm
．母模材料: Silicon (Preferred)
．母模尺寸: Ø300mm, Ø200mm (preferred) Ø150mm (acceptable)
．母模可選擇材料與尺寸: Ø200mm glass/fused silica/silicon/sapphire Thickness: 0.675mm to 1.8mm