SKYLARK 785 NX 雷射：拉曼光譜與分析的卓越工具

SKYLARK 785 NX 雷射 特點

• 拉曼應用最佳化：窄線寬近紅外光專為拉曼光譜設計，透過高光譜純度實現高解析度和高對比度測量。
• 超穩定輸出：在長時操作中保持一致的功率和波長，漂移極小。
o 光譜穩定度 (8小時內)：± 0.2 pm。
o 輸出功率穩定度 (8小時內)：≤ 2.0 % (峰對峰)。
o 輸出功率噪音 (10 Hz - 10 MHz)：≤ 0.3 % RMS。

• 超窄線寬：光譜帶寬 ≤ 0.3 MHz，減少光譜展寬，提供更銳利的拉曼峰、更好的訊號解析度和訊噪比 (SNR)。
• 低噪音：超低噪音確保潔淨的光譜輪廓和銳利、穩定的共振，ASE 噪音小於 -80 dB，無需額外濾波器或模式清理。
• 高功率輸出：高達 400 mW 的高效輸出功率，適用於光譜和顯微鏡應用。
• 優異的光束特性：TEM₀₀ 空間模式，光束純淨且發散度低 (≤ 1.0 mrad)。
• 緊湊與高效率：雷射頭尺寸僅為 257 x 150 mm (L x W)，體積小巧，功耗低於 50 W。

SKYLARK 785 NX 雷射 應用

• 分析：
o 拉曼光譜 (Raman spectroscopy)：包括共振拉曼、顯微拉曼、微拉曼、表面增強拉曼光譜 (SERS)、拉曼成像、低溫拉曼、熱台拉曼。
o 布里淵顯微鏡 (Brillouin microscopy)。
o 2D 材料分析、半導體材料分析、計量學。
o 共聚焦顯微鏡。
• 檢測：
o 半導體檢測。
o 流式細胞術。
o 光致發光 (PL)。
o 斑點干涉測量術。
• 製造：
o 干涉測量、無掩膜光刻。
o 微製造、薄膜塗層。
• 通訊：
o 自由空間光通訊。

SKYLARK 785 NX 雷射 主要參數

SKYLARK 785 NX 雷射